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2019-06-10
来源：ASML 目前配备0.33 NA镜头的EUV系统已经准备开始批量生产，同时围绕NA为0.55的EUV曝光工具展开的研究活动也加快了进度。这种光刻机的目的是未来十年内扩展摩尔定律，达到8nm的最终分辨率。目前已
来源：旺材新媒体
未知领域 来自火星
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这家伙很懒，什么都没有留
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